物性失效分析

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【TESCAN】奈米量級 FIB-SEM

【TESCAN】奈米量級 FIB-SEM

TESCAN SOLARIS 為奈米加工和奈米技術研發提供完整的奈米量級 FIB-SEM 解決方案!

TESCAN SOLARIS 完美結合高精度聚焦離子束 (FIB) 和 TriLens™ 型浸沒式設計的超高解析掃描式電子顯微鏡(SEM),實現離子束刻蝕和掃描式電子顯微鏡超高解析度影像的最佳組合。

 

【產品優勢】

功能
優勢
強大的擴展能力
  • 強大的樣品室擴展和樣品台擴展能力,可實現12英吋晶圓檢測,並可允許安裝多個探測器和附件。
超高解析度影像FIB
  • 業內最佳的高解析度FIB,即使在低電壓下也可實現高品質超薄TEM薄片製備。
浸沒式Triglav™型SEM鏡筒
  • 電子束無交叉斑設計,確保在超低著陸能量下實現電子束敏感樣品超高解析影像。
  • 可配置鏡筒內二次電子探測器和背散射電子探測器。
Orage™鎵離子FIB鏡筒
  • 憑藉超高的FIB解析度、更大的束流範圍,可以滿足日益嚴苛的聚焦離子束奈米加工需求。
TESCAN DrawBeam™
  • 內置優異的圖形軟體DrawBeam™,實現高精度的電子束和離子束奈米圖形加工技術。
TESCAN Essence™
  • 支援使用者根據需求自訂介面的模組化軟體。並可以輕鬆的從一個多用戶、多用途的工作平臺轉變為用於可應對重複性納米加工任務的優化解決方案。
多種的氣體使用
  • 可選配多種用於離子束沉積和選擇性刻蝕的氣體,進一步增強其加工性能。掃描電鏡鏡筒可選配安裝靜電束閘,利用電子束曝光技術製備納米圖形。

 

【主要技術規格】

功能
技術規格
Triglav™型超高解析度場發射 SEM 鏡筒
  • 蕭特基場發射燈絲,保證使用壽命可達2年
  • 採用TriLens™三物鏡設計,可提供超高解析模式,無漏磁分析模式和電子束無交叉模式
  • 鏡筒內的二次電子探測器和帶能量過濾功能的軸向背散射電子探測器
  • 電子束著陸能量:200eV-30keV (減速模式下<200eV)
  • 通過電磁光圈實現束斑最優化
  • 探針電流:2 pA - 400 nA,連續可調
  • 視野範圍:4.3mm @ WD = 5mm,>10 mm @ 最大 WD
Orage™鏡筒
  • 液態鎵離子源,預期最短使用壽命 3000μAh
  • 配置壓電驅光圈變換器,30孔光圈
  • 靜電束閘,配置法拉第杯
  • 離子束能量範圍:500 eV - 30 keV
  • <探針電流:< 1 pA - 100 nA
  • 視野範圍:1mm @ 10 keV
電子束解析度
  • nm @ 1 keV
  • 0.9 nm @ 1 keV (樣品台偏壓,減速模式下)
  • 0.6 nm @ 15 keV
  • 0.5 nm @ 30 keV STEM
低真空解析度
  • 1.5 nm @ 30 keV,GSD 探測器
  • 3.0 nm @ 3 keV,GSD 探測器
離子束解析度
  • 2.5 nm @ 30 keV

 

 

TESCAN是一家專注於微觀形貌、結構和成分分析的科學儀器的跨國公司,是全球知名的電子顯微儀器製造商,總部位於全球最大的電鏡製造基地-捷克布爾諾,且已建立起全球的銷售和服務網路,在捷克、法國和美國擁有4家研發中心、2個生產基地以及6家海外子公司,已有超過60年的電子顯微鏡研發和製造歷史。其產品主要有電子顯微鏡、聚焦離子束系統、多通道全息顯微鏡及相關分析附件和軟體。